长期生产去离子水处理设备 纯净水处理设备纯化水设备

工艺说明

用水设备说明：

在晶体管、集成电路、不锈钢精密件铜质件生产过程中，纯水主要用于化工制剂、清洗硅片、电路板、精密件，成品工序需要使用高纯水清洗，水质的好坏与产品质量及生产成品率关系很大。【1】水中的碱金属（K、Na等）会使绝缘膜耐压不良，重金属（Au、Ag、Cu等）会使PN结耐压降低，III族元素（B、AI、Ga等）会使N型半导体特性恶化，V元素（P、As、Sb等）会使P型半导体特性恶化、精密件表面结垢【2】，水中细菌高温碳化后的磷（约占灰分的20-50%）会使P型硅片上的局部区域变为N型硅而导致器件性能变坏【3】，水中颗粒（包括细菌）如吸附在表面，就会引起电路短路或特性变差。

EDI连续脱盐设备（代替混床）可以做到3年使用期内不需要酸碱再生。

设备采用反渗透膜作为除盐主体设备，做到排污时无工业污染废水排除，超纯水工艺采用国外先进的连续除盐工艺，做到了不需酸碱再生，自动电离再生法，省电，环保等